キラルHPLC
光学純度の決定に用いるキラルHPLCは、不斉反応の必需品です。特に超臨界流体での高流速条件で短時間での分析が可能です。
分取HPLC
化合物の精製、ジアステレオマーの分離などに活躍します。測定用としても使用できます。
MPLC
オープンカラムでの精製が困難な場合などに用います。オートコレクターでUV吸収のあるピークを自動で分取できます。
GC-MS
反応追跡、目的化合物の検出などに用います。簡便でかつ重要な装置です。
LC-MS
GC-MSでは測定が困難な化合物の測定に用います。
GPC
分子サイズの違いを利用し、触媒前駆体の精製、反応基質の幾何異性の分離などに用いています。UV波長を変えられるタイプ（写真右）とRIディテクター付のタイプ（２台）があります。
GC
HPLCでは測定困難な化合物のエナンチオ選択性の測定（キラルカラム）、EZ比またはジアステレオマー比の測定などに利用しています。
IR
分子中の構造や官能基の情報を得ることができます。ATRにより固体サンプル·液体サンプル共に簡単に測定できます。
旋光計
旋光度は絶対配置の決定などに用いる重要な化合物データです。不斉反応には欠かせません。
NMR(600MHz, 400MHz)
有機化合物の構造決定に使用する絶対必須の実験装置です。他にも合同A棟別館に400 MHz NMRを使用しています。さらに複雑な分子の構造決定には巨大分子解析センターの800 MHz, 700 MHz NMRを利用しています。
React-IR
IRにより反応の過程での基質·中間体·生成物·副生成物が変化する様子を直接追跡します。
昇華精製装置
キャリアガスを用いて不純物が混入している化合物を昇華により精製する装置です。有機半導体など有機電子材料分子の高純度化および結晶作製を行います。
スピンコーター
高速回転により生じる遠心力を利用して薄膜を作る装置です。
真空蒸着装置
真空雰囲気の中で材料を気化蒸発させて薄膜を成膜する装置です。
CV
電位を循環的に制御しながら電流を測定する手法です。分子の酸化還元特性を調べます。
フロー反応装置
微細な流路に原料と触媒を流し込むことにより、フラスコ合成では困難であった高い効率性を実現することができます。
マイクロウエーブ反応装置
マイクロ波の照射により反応効率を向上させることができます。
光反応装置
LEDを光源とする光を照射することにより高反応性中間体を発生させます。
低温恒温槽
低温での反応には必需で、０度から－４０度の温度対応と－４０度から－８０度の温度対応の恒温槽を所有しています。
グローブボックス
空気や水に不安定な化合物を取り扱う際に使用します。特に金属触媒反応には欠かせません。
無水溶媒装置
無水条件での反応を実施する際の溶媒として使用します。
ワークステーション
計算科学的手法による反応解析を行うために使用します。
融点測定装置
固体の有機化合物の融点を調べます。
UV-Vis
紫外から可視領域の光を照射することで、化合物の電子状態の情報を得ることができます。